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「ICPT 2023」におけるポスター発表とブース出展のご案内
2023年10月31日(火)より開催される「ICPT 2023」にて、ポスター発表とブース出展をいたします。
開催概要
学会名称:The 18th International Conference on Planarization/CMP Technology 2023
演 題 :Dishing Reduction Effect of Polyglycerol in Cu-CMP
―Consideration of CMP Mechanism by Dynamic Electrochemical Analysis, and Proposal for New Slurry―
日 時 :11月1日(水)16:55~18:55 (ポスター発表)
会 場 :金沢東急ホテル(石川県金沢市)
発表内容:
半導体製造に用いられる研磨薬液(CMPスラリー)にポリグリセリンを添加することで、
銅配線の表面状態を改善することを明らかにしました。
また、ポリグリセリンを防食剤と併用することで、防食剤の使用量を低減できること確認しました。
更には、この作用機構を動的条件下での電気化学測定により検証しました。
本学会では、これらの研究成果について発表いたします。
出展概要
当社では、天然由来で高品質なグリセリンおよび、その誘導体をご提供しております。
本企業ブースでは、これら製品の機能性と応用例についてご紹介いたします。
関連リンク
(研究所 電子材料グループ)